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平面反射陣單元仿真

文章來源: 互聯(lián)網(wǎng)    錄入: mweda.com   

我建模一個(gè)微帶平板反射陣的單元,利用波導(dǎo)模擬器法模擬無限周期結(jié)構(gòu)(空氣盒左右壁為PEC,前后壁為PMC,在空氣盒上端采用波端口模擬平面波照射,Deembed到貼片處,如第一個(gè)圖所示),我想觀察隨微帶貼片尺寸L變化的S11相移曲線,但是發(fā)現(xiàn)曲線會(huì)有抖動(dòng),不光滑,于是改變空氣盒的高度(波端口的位置),如第二個(gè)圖所示,相移曲線隨空氣盒高度有些變化,F(xiàn)在很不明白,這個(gè)相移曲線為什么會(huì)與波端口位置有關(guān)?想請問這種情況,空氣盒應(yīng)該設(shè)為多高呢?急求解答,萬分感謝! 

描述:單元模型,采用波端口激勵(lì)

圖片:1.jpg

描述:隨貼片尺寸變化的S11相移曲線

圖片:QQ截圖20130505201427.jpg

 

網(wǎng)友回復(fù):

如果硬件條件允許 把空氣腔高度調(diào)高一點(diǎn);我用的是比較暴力的3倍波長。。 

網(wǎng)友回復(fù):

 
嗯,我試一下,請問一下,為什么會(huì)與空氣高度有關(guān)呢?

網(wǎng)友回復(fù):

最初的HFSS10左右的時(shí)候要在頂上加PML層。足夠大的空氣腔高度是要滿足遠(yuǎn)場環(huán)境。

網(wǎng)友回復(fù):

 
特別感謝,確實(shí)是要加高空氣腔高度。嗯~在頂上加PML層不是另一種模擬無限周期結(jié)構(gòu)的方法——主從邊界法嗎?不限于hfss版本吧?

網(wǎng)友回復(fù):

我一直用的是Floquet port+ Master/Slave boundaries。在沒有這個(gè)之前,PEC+PMC boundaries+Waveport/Plane Wave+PML是常用的仿真方法哈。

網(wǎng)友回復(fù):

看了效果不錯(cuò)

網(wǎng)友回復(fù):

kankan.....

網(wǎng)友回復(fù):

沒放過這個(gè),不過看見了就瀏覽下

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