請(qǐng)問(wèn)大牛們，The calculation domain is completely filled by PEC.
The calculation domain is completely filled by PEC. Please check backgound material settings and layer properties. 不知道哪出問(wèn)題啦。
不是讓你檢查背景材料設(shè)置了么……
背景材料全是金屬.問(wèn)題最有可能出在 用仿真腔體的設(shè)置，來(lái)仿真天線
請(qǐng)問(wèn)如何設(shè)置仿真天線的背景材料?
Solve -> Background Material...
如果想仿真微帶線的近場(chǎng)輻射，背景材料和邊界條件這樣設(shè)置可以嗎?
邊界條件改為open add sapce吧
謝謝回答，
請(qǐng)問(wèn)open 、open add space 和 Et=0 分別對(duì)應(yīng)什么樣的實(shí)際情況?
open 吸收邊界
open add space 一定的自由空間+吸收邊界
Et=0 理想電壁，就是電導(dǎo)體
背景材料怎么表述的，主要就是看介電常數(shù)之類(lèi)。你根據(jù)要求設(shè)置各種參數(shù)就行了吧
要弄明白各種邊界的話最好看下算法的東西，只是工程用的話按CST給的模板來(lái)吧。
原來(lái)是這樣，謝謝……
現(xiàn)在我參考了別人的例子，仿真一個(gè)含有接地層的微帶線，
1.他將邊界條件都設(shè)置成了理想磁壁，仿真之后的結(jié)果跟論文上的差不多了，
2.然后我又根據(jù)您的建議，將上邊界改成了open add space，再按自己的理解，將下邊界（與接地板相連的）設(shè)為理想電壁，其他邊界設(shè)為理想磁壁，得出的仿真結(jié)果也沒(méi)有太大差別……
請(qǐng)問(wèn)這是不是說(shuō)明兩種邊界的設(shè)置都沒(méi)有問(wèn)題?還是只有其中一種的設(shè)置是正確的?
