微帶計算邊界設(shè)置問題

看CST仿真實例，發(fā)現(xiàn)對于普通微帶的邊界均設(shè)置為PEC，不知道上方高度應(yīng)該如何設(shè)置？？？
但是對于DGS之類的結(jié)構(gòu)，邊界又設(shè)置為PMC，不知道這種設(shè)置可以改為PEC不？
還有，就是什么時候用PEC，什么時候用PMC？？兩者可以換不？差距又是多大？

網(wǎng)友回復(fù):

hi txwz,
土問一下，不知你這里的邊界指的是哪里的設(shè)置。不是在template或者boudary conditions中統(tǒng)一設(shè)置的嗎？為什么針對微帶和DGS要專門設(shè)置？
謝謝！

網(wǎng)友回復(fù):

是boudary conditions中的..
我現(xiàn)在這里只能加工微帶形式的, 腔體的加工有點(diǎn)困難,所以就仿一些微帶的例子..
不過看CST, 就發(fā)現(xiàn)他的boudary conditions在不同情況下并不一樣,
感覺自己很沒有頭緒...不知道應(yīng)該如何設(shè)置...

網(wǎng)友回復(fù):

我對CST邊界條件設(shè)置中的“邊界”的理解就是被仿真結(jié)構(gòu)的周邊環(huán)境，要根據(jù)你結(jié)構(gòu)將來安放的位置來選了。
以單極天線為例（我是做天線的），如果金屬地平面是近似“無窮大”金屬表面的一部分，即天線的地與手機(jī)金屬殼共形，則地平面取Et=0的電壁，仿真后的結(jié)果方向圖將看不到后瓣；如果是放在自由
空間中，則選open或者open(added space)－－僅管此時的地平面仍是金屬。
不知道大家是如何理解的。也不知道跟你的問題是不是一回事，器件方面做得很少，了解不多。